RF射頻電源
PECVD系統，它由管式爐，石英真空室、真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。主要使用于:金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，石墨烯等生長。增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能。該PECVD系統具有： 薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。
RF射頻電源主要技術參數：
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功率輸出范圍 |
0-500W |
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最大反射功率 |
200W |
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工作頻率 |
射頻：13.56MHZ±0.005% |
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功率穩定度 |
+/-0.1% |
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諧波分量 |
≤-50dbc |
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射頻區域寬度 |
0-600mm 可調 |
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匹配方式 |
自動 |
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冷卻方式 |
分冷 |
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噪聲 |
<50dB |
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射頻接口 |
50Ω N-type |
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輸入電源 |
208-240V 50/60HZ |
