6英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐
RTP-Ⅱ-CSS-150是一款6英寸近距離旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐，腔體采用高真空不銹鋼，此款設(shè)備可用于蒸發(fā)或CSS鍍膜實(shí)驗(yàn)，氧化物、半導(dǎo)體或者太陽(yáng)能基片退火實(shí)驗(yàn)，其載樣臺(tái)尺寸為Φ150，頂部載樣臺(tái)可以旋轉(zhuǎn)提高鍍膜均勻度。此款高溫爐的加熱原件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部）。最大升溫速率是20℃/S
|
CSS
|
型號(hào) |
RTP-Ⅱ-CSS-150 |
|
|
視頻 |
|||
|
最高溫度 |
900℃ |
||
|
電源電壓 |
AC三相380V | ||
|
功率 |
16KW |
||
|
腔體結(jié)構(gòu)和真空室
|
雙加熱器，兩個(gè)溫度控制器，可單獨(dú)控溫 |
||
|
真空腔體采用304不銹鋼結(jié)構(gòu)，正前方帶有直徑100mm的觀(guān)察窗 |
|||
|
真空法蘭由304不銹鋼制成 |
|||
|
法蘭由硅膠O型圈密封，可通過(guò)機(jī)械泵實(shí)現(xiàn)1Pa的真空壓力 |
|||
|
加熱器和樣品架
|
兩組短波紅外燈作為加熱原件，用于快速加熱 |
||
|
兩個(gè)加熱器之間的距離可在10~60mm之間調(diào)節(jié) |
|||
|
上下加熱器之間配備擋板 |
|||
|
上加熱器可旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速為0~30rpm |
|||
|
加熱器由不銹鋼制成，帶有水冷夾套，可減少熱輻射并實(shí)現(xiàn)快速冷卻 |
|||
|
6英寸圓形晶圓支架內(nèi)置頂部加熱器，可裝載基板 |
|||
|
采用導(dǎo)熱率較高的氮化鋁板陶瓷片（直徑6英寸×0.5mm厚）作為載樣臺(tái)，以達(dá)到較好的加熱均勻性 |
|||
|
兩個(gè)英國(guó)進(jìn)口歐陸3204數(shù)字溫度控制器，控溫精度±1℃，可獨(dú)立控制頂部和底部加熱器 |
|||
|
測(cè)溫方式 |
兩根K型熱電偶，一根測(cè)上加熱臺(tái)，一根測(cè)下加熱臺(tái) |
||
| 控溫方式 |
采用歐陸3204程序控溫儀表 1、高精度的溫度儀表，LCD液晶顯示屏，5位數(shù)值顯示，通過(guò)快速設(shè)置配置簡(jiǎn)單，C/F單位切換 2、1組程序8步，共4組程序 3、具有過(guò)溫保護(hù) 斷偶保護(hù)，過(guò)溫或斷偶時(shí)電爐加熱電路自動(dòng)切斷,，（當(dāng)電爐溫度超過(guò)900度或熱電偶燒斷時(shí)，主電路上的交流繼電器會(huì)自動(dòng)斷開(kāi)，主電路斷開(kāi)，面板上ON燈熄滅，OFF燈亮，有限的保護(hù)電爐）。 4、支持各種通訊接口 Modbus, Ethernet, Profibus，Devicenet，可以與任意PLC或上位系統(tǒng)集成 5、具有斷電保護(hù)功能，即斷電后再給電啟動(dòng)爐子時(shí)、程序不是從起始溫度開(kāi)始升、而是從斷電時(shí)爐溫開(kāi)始升。 6、儀表具有溫度自整定的功能 |
||
| 工作溫度 | 每個(gè)加熱器最高溫度≤900℃，兩個(gè)加熱器之間的最大溫差≤300℃ | ||
| 真空泵 | 機(jī)械泵型號(hào):BSV30 | ||
| 抽速：8L/s | |||
| 功率：1.1KW | |||
|
冷水機(jī) CW6200 |
電源 |
3PH-380V/50HZ |
|
|
總功率 |
8KW |
||
|
最大揚(yáng)程 |
30M |
||
|
冷凍水量 |
2.8m3/h |
||
|
水箱容量 |
110L |
||
|
制冷量 |
13244Kcal/h |
||
|
出入水口 |
Rp1/2’’ |
||
|
機(jī)器尺寸 |
1300×650×1145(長(zhǎng)X寬X高) |
||
真空蒸鍍?cè)O(shè)備主要由真空室和抽真空系統(tǒng)組成，真空室內(nèi)有蒸發(fā)源(即蒸發(fā)加熱器)、基片及基片架、基片加熱器、排氣系統(tǒng)等。
將鍍膜材料置于真空室內(nèi)的蒸發(fā)源中，在高真空條件下，通過(guò)蒸發(fā)源加熱使其蒸發(fā)，當(dāng)蒸氣分子的平均自由程大于真空室的線(xiàn)性尺寸以后，膜材蒸氣的原子和分子從蒸發(fā)源表面逸出后，很少受到其他分子或原子的碰撞與阻礙，可直接到達(dá)被鍍的基片表面上，由于基片溫度較低，膜材蒸氣粒子凝結(jié)其上而成膜。
為了提高蒸發(fā)分子與基片的附著力，可以對(duì)基片進(jìn)行適當(dāng)?shù)募訜峄螂x子清洗使其活化。真空蒸發(fā)鍍膜從物料蒸發(fā)、運(yùn)輸?shù)匠练e成膜，經(jīng)歷的物理過(guò)程如下:
(1)利用各種方式將其他形式的能量轉(zhuǎn)換成熱能，加熱膜材使之蒸發(fā)或升華，成為具有一定能量(0.1~0.3eV)的氣態(tài)粒子(原子、分子或原子團(tuán)):
(2)氣態(tài)粒子離開(kāi)膜材表面，以相當(dāng)?shù)倪\(yùn)動(dòng)速度基本上無(wú)碰撞的直線(xiàn)輸運(yùn)到基片表面;
(3)到達(dá)基片表面的氣態(tài)粒子凝聚形核后生長(zhǎng)成固相薄膜;
(4)組成薄膜的原子重組排列或產(chǎn)生化學(xué)鍵合
